Datei:Dual-Tone Photoresist.png
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Beschreibung
| Beschreibung |
English: Dual-tone photoresist crosslinks or undergoes acid-quenching in regions of highest exposure, becoming insoluble to developer. At the same time, the regions of lowest exposure are also insoluble, thus allowing the intermediate exposure regions defining the edges to be printed. |
| Datum | |
| Quelle |
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| Urheber | Guiding light |
Lizenz
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Upload date | User | Bytes | Dimensions | Comment
- 2010-02-11 09:18:53 | Guiding light | 23729 | 907×394 |
- 2010-02-11 06:04:47 | Guiding light | 26386 | 907×453 | Dual-tone photoresist crosslinks in regions of highest exposure, becoming insoluble to developer. At the same time, the regions of lowest exposure are also insoluble, thus allowing the intermediate exposure regions defining the edges to be printed. Refer
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| aktuell | 19:02, 19. Okt. 2011 | | 907 × 394 (23 KB) | wikimediacommons>OgreBot | (BOT): Reverting to most recent version before archival |
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