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Beschreibung

Beschreibung
Deutsch: Funktionsprinzip des Chemisch-mechanisches Polierens
English: Functional principle of Chemical-mechanical polishing
Datum
Quelle self drawing
Urheber wisem
Genehmigung
(Weiternutzung dieser Datei)
is given

Lizenz

Public domain Ich, der Urheberrechtsinhaber dieses Werkes, veröffentliche es als gemeinfrei. Dies gilt weltweit.
In manchen Staaten könnte dies rechtlich nicht möglich sein. Sofern dies der Fall ist:
Ich gewähre jedem das bedingungslose Recht, dieses Werk für jedweden Zweck zu nutzen, es sei denn, Bedingungen sind gesetzlich erforderlich.

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aktuell01:53, 18. Aug. 2007Vorschaubild der Version vom 01:53, 18. Aug. 20071.382 × 2.511 (825 KB)wikimediacommons>Wisem commons{{Information |Description=functional principle of CMP |Source=self drawing |Date=Jan 2005 |Author=wisem |Permission=is given |other_versions=no }}

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