Benutzer:Cepheiden/Beiträge
Auswahl von Artikeln, an denen ich in größerem Umfang mitgewirkt habe (Änderungen)
Technik
Atomlagenabscheidung
,
Bipolartransistor,
Chemisch-mechanisches Polieren,
Dünnschichttechnik,
Damascene-Prozess, Dual-Damascene-Prozess,
Elektronenstrahllithografie,
Equivalent oxide thickness,
Epitaxialtransistor,
Fingerprint (Spektroskopie),
Foucault-Prisma,
Formgedächtnislegierung,
Fotolithografie (Halbleitertechnik),
Gasphasenzersetzung,
Glan-Thompson-Prisma,
Grabenisolation,
Gridistor,
High-k+Metal-Gate-Technik,
Immersionslithografie
,
Infrarot-Reflexions-Absorptions-Spektroskopie,
Ionenplattieren,
Ionenstrahllithografie,
Kritische Abmessung,
Lift-off-Verfahren,
LOCOS-Prozess,
Mehrfachstrukturierung,
Mesatransistor,
Metall-Oxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor,
Metall-Isolator-Halbleiter-Struktur,
metallorganische chemische Gasphasenabscheidung,
Mikroelektronik,
Neutronenreflektometrie,
Nicolsches Prisma,
Optical proximity correction,
Overlay (Halbleitertechnik),
Prisma (Optik) (inkl. Dispersions-, Reflexions- und Polarisationsprisma),
Röntgenlithografie,
Scatterometrie,
Schaltungstechnik,
Schwarzes Silicium,
Silizium-Gate-Technik,
Sputtern,
Thermische Oxidation von Silizium,
Waferpinzette
Naturwissenschaften
Anodische Oxidation,
Bändermodell,
Berreman-Effekt,
Cauchy-Gleichung,
Cotton-Mouton-Effekt,
Dram (Einheit),
elektrischer Widerstand,
Delisle-Skala,
Fresnel-Arago-Gesetze,
fresnelscher Doppelspiegel,
Gunn-Effekt,
Imbert-Fedorov-Effekt,
Halbleiter,
meckesche Symbole,
Müller-Matrix,
Nitride,
Pentacen,
Silicium,
Störstelle, Störstellenerschöpfung, Störstellenreserve,
Voigt-Effekt
Personen
Dwight W. Berreman,
Julius Blank,
Kurt Drescher,
Victor Grinich,
Jean Hoerni,
Jay Last,
Klaus Lunze,
Eugene Kleiner,
Sheldon Roberts,
John Woollam
Vorlagen
Der Spiegel, Gallica, Google Buch, Literatur, Patent, TabsCSS
